描述

VARIO DUO真空系統是由兩個**的VARIO真空系統組成，在進氣口端并行連接，并通過一個CVC 3000控制器同時進行操控。真空條件可準確控制。兩個**真空泵的轉速可以根據真空需求準確控制。控制器即可實現不需要用戶預設的全自動蒸餾，又可以進行特定的、可重復地程序編程。可以通過數字或模擬界面集成到已有的控制系統中。很高的耐化學腐蝕的特性為化學和制藥領域提供了良好的解決方案 - 不需要水或者油等運行介質。

性能特性

· 整個過程真空度自動調節，過程穩定性高，操作過程無需過多干預

· 因其強大的真空泵，使過程時間很短，即使針對很大的氣載量仍能提供準確的（無滯后）真空控制

· 可移動的CVC 3000真空控制器，安裝靈活，多語言菜單，操作簡單，采用數字或模擬接口便于集成

· 膜片壽命很長，將操作成本和維修成本降到很低

· 很低能耗、無運行介質（水或油）及高效的溶劑回收系統，使其成為一款環境友好的產品